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在光学镜头的制造过程中，镀膜是一道必不可少的工序，镀膜可以增加进光量、减少鬼影眩光等现象，其原理是通过特定技术在镜片的表面布置一层超薄的膜，提高光学镜头的性能，主要作用是增大了镜头的进光量。本期我们将一种用于高精密光学镜头的镀膜方法。

热沉积镀膜法

热沉积（EBE – 电子束蒸发）是最常见和最古老的光学镀膜工艺，用于镀膜光学基材。具有涂层材料种类多、基材形状灵活、品质高和性价比高等优势。

在蒸发过程中，材料在 10 -4的真空室中被蒸发，mbar 可以通过高温或用电子束敲除，根据材料特性（例如熔点）和光学规格选择合适的光学镀膜工艺。要蒸发的材料位于真空室底部的合适容器或所谓的舟皿中，通过电流或电子束，它被带到沸腾温度并蒸发，由于蒸汽粒子在高真空中几乎呈线性传播而不会发生碰撞，因此它们在遇到障碍物时会均匀凝结，待镀膜的光学基板位于蒸发室上部的旋转圆顶上。

在光学镀膜工艺开始之前，必须手动彻底清洁镜片或通过超声波清洗，以去除灰尘等杂质，并防止功能受损。施加层的特性也可以通过热处理，即所谓的回火来有针对性地改变。最后的改进是通过加热镜片来实现的，这样可以去除应用层中的水分。这种附加工艺的优势在于进一步优化光学镀膜，部分涂层材料还可以进行回火。